Desarrollan sistema de monitoreo de gases Ar/O₂ para optimizar la deposición de películas delgadas

El control de la atmósfera gaseosa es un factor determinante en la síntesis de películas delgadas mediante RF Magnetron Sputtering, particularmente cuando se emplean procesos de pulverización catódica reactiva. En este tipo de deposición, el argón permite generar el plasma y favorecer la eyección de átomos del material blanco, mientras que el oxígeno interviene en las reacciones que conducen a la formación de óxidos. Por ello, una dosificación estable y reproducible de ambos gases resulta fundamental para controlar las propiedades y uniformidad de las películas obtenidas. 

Ante la necesidad de contar con una alternativa accesible a los controladores comerciales de flujo másico, investigadores y alumnos de la Universidad Marista de Mérida desarrollaron e integraron un sistema de monitoreo de gases Ar/O₂ para un equipo de RF Magnetron Sputtering. El sistema incorpora sensores de flujo másico, válvulas de precisión y un sistema microcontrolador-pantalla para visualizar en tiempo real el flujo de cada gas. 

El desarrollo destaca además por su carácter modular, de bajo costo y escalable. La participación de alumnos en el diseño y construcción del sistema constituye un ejemplo de cómo los proyectos de investigación permiten integrar conocimientos de instrumentación electrónica, programación, manufactura, vacío y ciencia de materiales para resolver problemas experimentales concretos.